宽带隙氧化锌和氧化镓的干法刻蚀研究的任务书

宽带隙氧化锌和氧化镓的干法刻蚀研究的任务书任务书一、研究背景宽带隙半导体氧化锌（ZnO）和氧化镓（Ga2O3）具有晶体结构稳定，能宽（3.4 eV），光学透明，电学性能优良等优点，因而被广泛应用于光电

宽带隙氧化锌和氧化镓的干法刻蚀研究的任务书 任务书 一、研究背景 宽带隙半导体氧化锌（ZnO）和氧化镓（Ga2O3）具有晶体结构稳 定，能宽（3.4eV），光学透明，电学性能优良等优点，因而被广泛应 用于光电器件、电子器件等领域。但是，氧化锌和氧化镓材料的表面质 量对器件性能有重要影响，表面缺陷、气相污染物或有机物等都会在电 子器件中产生电子陷阱和损伤，降低器件的可靠性和稳定性。因此，研 究氧化锌和氧化镓材料的表面形貌和质量变得尤为重要。 干法刻蚀技术是一种常用表面加工技术，具有工艺简单、加工速度 快、可大规模制备、易控制等优点。因此，采用干法刻蚀技术制备氧化 锌和氧化镓材料，可以有效地改善其表面形貌和质量。 二、主要研究内容 本次研究将以宽带隙半导体氧化锌和氧化镓为研究对象，采用干法 刻蚀技术研究其表面形貌和质量的影响因素，包括刻蚀条件、刻蚀时 间、刻蚀深度等。具体研究内容包括以下几个方面： 1.研究氧化锌和氧化镓材料的表面形貌和质量，包括表面光洁度、 表面平整度、表面化学成分等。 2.采用浸泡等温处理的方法改善氧化锌和氧化镓材料的表面质量， 探索其可行性和效果。 3.利用不同的干法刻蚀技术制备氧化锌和氧化镓材料，比较其对表 面形貌和质量的影响。 4.研究干法刻蚀条件对氧化锌和氧化镓材料的影响，包括气氛、气 气流速、刻蚀时间、刻蚀深度等。