磁控溅射镀膜机设计方案主要配置设备用途和功能特点1该

磁控溅射镀膜机 设计方案、主要配置 一、设备用途和功能特点: 1、该设备是一台磁控溅射镀膜机,配有三支Φ2英寸普通圆形平面永磁靶,一支Φ2英寸铁磁靶用于镀制铁磁材料。 适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺