等离子体氮化与物理气相沉积TiN薄膜复合处理研究进展

等离子体氮化与物理气相沉积复合处理研究进展赵彦辉1，董利民1，杜昊1，于传跃2，肖金泉1，于宝海1（1.中国科学院金属研究所，沈阳 110016；2.沈阳华俄科技发展有限公司，沈阳 110164）摘要