离子注入技术实习报告(2)

离子注入技术实习报告(2)离子注入技术实习报告范文 　　我国有科学家研究了引出束流密度分布[4]。MEVVA源的束流密度符合高斯分布，束流密度分布对于引出电压和轴向磁场的变化并不敏感，因为离

离子注入技术实习报告(2) 离子注入技术实习报告范文 我国有科学家研究了引出束流密度分布[4]。MEVVA 源的束流密度符合高斯分布，束流密度分布对于引出电压和 轴向磁场的变化并不敏感，因为离子源应用于离子注入系统 中,注入离子的参数如能量、流强等可能常要求改变,但束 分布的均匀性、束斑大小、散角以及发射度等并不发生大的 变化,这样注入的设备就变得简单,调节起来也显得方便。 为了不断适应各种新的需要，研究人员不断改进