电子行业半导体刻蚀设备深度报告

电子行业半导体刻蚀设备深度报告造中使用的主要刻蚀方法，电容性等离子刻蚀（CCP ）和电感性等离 子刻蚀（ICP）是两种常用的等离子刻蚀方法。CCP的原理是将施加 在极板上的射频或直流电源通过电容耦合的