氯氢硅、四氯化硅相关反应

02．三氯氢硅氢还原反应基本原理 用氢气作为还原剂，在1100～1200℃下还原SiHC13，是目前多晶硅生产的主要方法。由于氢气易于净化，而且在硅中的溶解度极低，所以用氢气还原生产的多晶硅较其