原子层沉积钨在22nm及以下技术代栅电极中的应用研究

原子层沉积钨在22nm及以下技术代栅电极中的应用研究原子层沉积（Atomic Layer Deposition, ALD）是一种薄膜制备技术，通过在材料表面逐层沉积单原子或者多原子的薄膜，可以实现极高