CoSi＿2／Si结构中杂质离子注入及自对准硅化物MOS器件技术

CoSi＿2／Si结构中杂质离子注入及自对准硅化物MOS器件技术1.引言目前，CMOS器件已经成为了现代电子设备的基础，而硅是大多数CMOS器件的基础材料之一。然而，单晶硅在实际应用中存在制造技术的限