硅片化学清洗总结

硅片的化学冲洗总结硅片冲洗的一般原则是第一去除表面的有机沾污；而后溶解氧化层(因为氧化层是“沾污圈套”，也会引入外延缺点)；最后再去除颗粒、金属沾污，同时使表面钝化。冲洗硅片的冲洗溶液一定具备以下两种