一种全靶腐蚀磁控溅射真空镀膜设备

- 一种全靶腐蚀磁控溅射设备(1) 　　传统的磁控溅射设备由于等离子体在靶面形成跑道效应, 所以存在着靶材利用率低, - 反应溅射过程中稳定性差的问题。M.J. Thwa