碱性阻挡层抛光液在65nm铜布线平坦化中应用

碱性阻挡层抛光液在65nm铜布线平坦化中应用综述随着集成电路技术的不断发展，芯片的制造工艺愈加复杂，影响芯片性能的因素也变得日益复杂，其中铜布线的制造是影响芯片性能的重要因素之一。为了满足集成电路制造