基底温度对直流磁控溅射制备氮化铜薄膜的影响研究

基底温度对直流磁控溅射制备氮化铜薄膜的影响研究摘要：本研究基于直流磁控溅射技术制备氮化铜薄膜，研究了基底温度对氮化铜薄膜的物理化学性质和表面形貌的影响。实验结果表明，随着基底温度的升高，平均晶粒尺寸、