四轴抛光平台综合误差建模及分析

四轴抛光平台综合误差建模及分析四轴抛光平台是一种常用于表面抛光加工的机械装置。然而，在实际应用中，四轴抛光平台的运动精度和抛光效果往往会受到综合误差的影响。因此，对四轴抛光平台的综合误差进行建模和分析