原子层沉积机理的原位光电子能谱研究进展

原子层沉积机理的原位光电子能谱研究进展原子层沉积(ALD)作为一种先进的薄膜制备技术，已经在集成电路、储能设备、光电子领域等多个领域得到广泛应用。ALD的基本原理是先在表面上吸附一层反应物的分子，在其