半导体工艺基础--EUV光刻技术

- 半导体工艺基础 - EUV光刻技术

光刻的实习报告

光刻的实习报告 关于光刻的实习报告 实习目的是，通过光刻技术领域专利审查相关工作岗位实习使我了解以后再光刻技术领域专利审查相关工作岗位工作的特点、性质，体验光刻技术领域专利审查相关岗位工作的实际情

光刻设备创新

- 光刻设备创新 - - 光刻技术发展趋势分析 EUV光刻系统原理与技术挑战 多电子束直写技术及其应用前景 纳米压印光刻技术与半导体制造 光刻工

光刻技术简介-课件PPT（精）

- 光刻技术简介及其应用举例 - - - 光刻的原理概述 - 光刻胶-光致抗蚀剂

《非光学光刻技术》PPT课件

- 通过使用大数值孔径的扫描步进光刻机和深紫外光源，再结合相移掩模、光学邻近效应修正和双层胶等技术，光学光刻的分辨率已进入亚波长，获得了 0.1 m 的分辨率。若能开发出适合 157

【毕业论文设计】对半导体工艺中光刻技术的探讨》

毕业设计论文对半导体工艺中光刻技术的探讨系咅E 电子信息工程系 专业 微电子技术 姓名 班级微电 学号 指导教师 职称 讲师指导老师 职称 助教设计时间 2010.2.21—2011.4. 15精品

第八部分光刻

- 第八章 光刻 - 光刻：图形由光刻版转移到光刻胶上！光刻次数和光刻版个数表征了工艺的难易决定了特征尺寸起源于印刷技术中的照相制版。 - 耪封胺边颁井

第八章光刻原理和技术ppt课件

- §8.1 引言 - 光刻是IC制造业中最为重要的一道工艺 - 每三年尺寸减小0.7X.硅片制造工艺中，光刻占所有成本的35%??所在的地方代表了road

光刻实验报告

光刻实验一．实验目的了解光刻在样品制备工艺中的作用，熟悉光刻工艺的步骤和操作。二．实验原理光刻是一种复印图象与化学腐蚀相结合的综合性技术，它先采用照像复印的方法，将光刻掩模板上的图形精确地复制在涂有光

摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望

CPU光刻技术分析与展望前言：光刻技术作为半导体工业的“领头羊”，在半个世纪的进化历程中为整个产 业的发展提供了最为有力的技术支撑。历经50年，集成电路已经从上世纪60年代的每个芯片上仅几十个器件发展

介绍光刻材料

介绍光刻材料　　光刻工艺介绍　　一、定义与简介　　光刻是所有四个基本工艺中最关键的，也就是被称为大家熟知的photo，lithography，photomasking,masking,或micr

激光干涉光刻技术-光学专业毕业论文

塑堂三鲨堂型茎查堕窒 婴型查堂蔓圭堂垡笙塞致谢在本论文完成之际，首先要感谢的是我的导师郭永康教授，是他以渊博的 学识，严谨的治学态度，以及慈父般的关爱，将我领进了科学探索的大门。郭 老师凭着学术上敏锐