精选半导体制造工艺08扩散下

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半导体设备工艺简介

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半导体制造工艺_03硅的氧化

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半导体工艺整理

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芯片制造-半导体工艺教程

芯片制造-半导体工艺教程Microchip Fabrication             ----A Practical Guide to Semicondutor Processing 

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半导体制造手册-CHAPTER3半导体硅基片制造

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半导体制造技术期末题库参考 答案

1． 分别简述 RVD 和 GILD 的原理， 它们的优缺点及应用方向。答：快速气相掺杂(RVD, Rapid Vapor-phase Doping)是一种掺杂剂从气相直接向硅中扩散、并能形成超浅结的