精编微电子工艺清洗技术分析

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微电子工艺原理-第5讲清洗工艺

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《微电子工艺》课程教学大纲

微电子工艺Microelectronics technics一、课程基本情况课程类别：专业方向课课程学分：3学分课程总学时：48学时，其中讲课：32学时，实验：16学时，上机： 学时，课外 学时 课程

精编微电子技术发展历史论文

微电子技术发展历史论文摘要本文展望了21世纪微电子技术的发展趋势。认为：21世纪初的微电子技术仍将以硅基CMOS电路为主流工艺，但将突破目前所谓的物理“限制”，继续快速发展；集成电路将逐步发展成为集成

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微电子工艺原理第5讲清洗工艺2

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微电子技术应用基础第二章集成电路的制造工艺

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微电子工艺之刻蚀技术

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