AZ_PR光刻胶的数据资料

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中国光刻胶市场发展前景分析

中国光刻胶市场发展前景分析光刻胶主要用于图形转移用耗材。光刻胶是一种胶状的物质，可以被紫外光、 深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄 膜材料，是光刻工艺中的关键材料

光刻光刻胶和刻蚀

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SOC材料与工艺2(光刻胶非光学光刻刻湿)

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第12章光刻掩膜光刻胶和光刻机ppt课件

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光刻胶综述

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14、正性光刻胶C5315安全周知卡

四川广义微电子股份有限公司Sichuan General Microelectronics Co., Ltd危险化学品安全周知卡化学品名称正性光刻胶C5315化学分子式/危险特性本品易燃，具刺激性，会

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国内外光刻胶现状及发展趋势

特种化工材料技术研讨会论文集 出第一批环化橡胶——双叠氮系光刻胶，使集成电 早的产品。主要为环化橡胶——双叠氮系列，也有 rL't I 翌堡竺!垄 中烘 ￡) 显影 图1光刻的8个步骤 次光刻的对象不

篇光刻胶PPT学习教案

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