提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法

提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法122111孙祥乐 ，孙 茜 ，孙金妮 ，王忆锋 ，余连杰 ，刘黎明 (1.昆明物理研究所，云南 昆明 650223;2.云南师范大学，云南 昆明 65