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提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法122111孙祥乐 ，孙 茜 ，孙金妮 ，王忆锋 ，余连杰 ，刘黎明 (1.昆明物理研究所，云南 昆明 650223;2.云南师范大学，云南 昆明 65

磁控溅射镀膜机

圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理孙东明摘要：介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法．并对如何发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析．关键词：磁控溅射；靶；真空

直流磁控溅射离子镀镀层厚度均匀性表征及研究的开题报告

直流磁控溅射离子镀镀层厚度均匀性表征及研究的开题报告题目：直流磁控溅射离子镀镀层厚度均匀性表征及研究一、研究背景与意义直流磁控溅射离子镀技术是一种高效的真空镀膜方法，在工业生产和科学研究中广泛应用。然

磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜-海南大学材料与化工学院 专业实验报告 课程:材料表面工程 学院:材料与化工 年级/专业:10材料2班 日期:2013年5月20日 实验名称 磁控溅射镀膜 教师签名 成绩 姓名、学号 同组

磁控溅射镀膜原理及工艺

磁控溅射镀膜原理及工艺摘要：真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的磁控溅射镀

影响磁控溅射均匀性的因素

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磁控溅射镀膜技术12

- 一、引言 - 荷能粒子（例如氩离子）轰击固体表面，引起表面各种粒子，如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中，通常是应用氩气电离产生的正离子轰击

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[汇总]磁控溅射镀膜工艺大面积磁控溅射工艺 1、介绍 在玻璃或卷材上制备的用于建筑、汽车、显示器和太阳能应用的光学多层膜是利用反应磁控溅射以具有可重复的稳定的高沉积率进行生产的。在整个基底宽度上的良好

磁控溅射镀膜工艺

大面积磁控溅射工艺  1、介绍在玻璃或卷材上制备的用于建筑、汽车、显示器和太阳能应用的光学多层膜是利用反应磁控溅射以具有可重复的稳定的高沉积率进行生产的。在整个基底宽度上的良好膜厚均匀性和适当的工艺长

磁控溅射镀膜原理及工艺设计

磁控溅射镀膜原理及工艺摘要：真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的磁控溅射镀

高真空磁控溅射镀膜系统介绍

高真空磁控溅射镀膜系统介绍1. 设备简介                                                    ● 名称： 高真空磁控溅射镀膜系统● 型号：JGP560

磁控溅射镀膜技术综合介绍

一.磁控溅射电镀上世纪80年代开始，磁控溅射技术得到迅猛的发展，其应用领域得到了极大的推广。现在磁控溅射技术已经在镀膜领域占有举足轻重的地位，在工业生产和科学领域发挥着极大的作用。正是近来市场上各方面