腾讯文库搜索-光刻原理和技术
微电子制造工艺技术第7章光刻
- 7.1 图形加工技术简介7.2 基本光刻工艺流程7.3 光刻机和光刻版复习思考题7.2 基本光刻工艺流程7.2 基本光刻工艺流程7.3 光刻机和光刻版复习思考题7.2
半导体工艺基础--EUV光刻技术
- 半导体工艺基础 - EUV光刻技术
西安交通大学微电子制造技术第十四光刻
- - 微电子制造技术第 14 章 光刻:对准和曝光 - - 失入坚澡群橡呢层盘纳缝盆煌脂跨踢汽箭亭凤吃轻乐辊匿
光刻的实习报告
光刻的实习报告 关于光刻的实习报告 实习目的是,通过光刻技术领域专利审查相关工作岗位实习使我了解以后再光刻技术领域专利审查相关工作岗位工作的特点、性质,体验光刻技术领域专利审查相关岗位工作的实际情
光刻技术简介-课件PPT(精)
- 光刻技术简介及其应用举例 - - - 光刻的原理概述 - 光刻胶-光致抗蚀剂
《集成电路光刻工艺》课件
- 《集成电路光刻工艺》ppt课件 - 目录 - 光刻工艺简介光刻工艺流程光刻工艺材料光刻工艺设备光刻工艺技术发展与展望
《非光学光刻技术》PPT课件
- 通过使用大数值孔径的扫描步进光刻机和深紫外光源,再结合相移掩模、光学邻近效应修正和双层胶等技术,光学光刻的分辨率已进入亚波长,获得了 0.1 m 的分辨率。若能开发出适合 157
光刻设备创新
- 光刻设备创新 - - 光刻技术发展趋势分析 EUV光刻系统原理与技术挑战 多电子束直写技术及其应用前景 纳米压印光刻技术与半导体制造 光刻工
摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望
CPU光刻技术分析与展望前言:光刻技术作为半导体工业的“领头羊”,在半个世纪的进化历程中为整个产 业的发展提供了最为有力的技术支撑。历经50年,集成电路已经从上世纪60年代的每个芯片上仅几十个器件发展
【毕业论文设计】对半导体工艺中光刻技术的探讨》
毕业设计论文对半导体工艺中光刻技术的探讨系咅E 电子信息工程系 专业 微电子技术 姓名 班级微电 学号 指导教师 职称 讲师指导老师 职称 助教设计时间 2010.2.21—2011.4. 15精品
激光干涉光刻技术-光学专业毕业论文
塑堂三鲨堂型茎查堕窒 婴型查堂蔓圭堂垡笙塞致谢在本论文完成之际,首先要感谢的是我的导师郭永康教授,是他以渊博的 学识,严谨的治学态度,以及慈父般的关爱,将我领进了科学探索的大门。郭 老师凭着学术上敏锐
光刻实验报告
光刻实验一.实验目的了解光刻在样品制备工艺中的作用,熟悉光刻工艺的步骤和操作。二.实验原理光刻是一种复印图象与化学腐蚀相结合的综合性技术,它先采用照像复印的方法,将光刻掩模板上的图形精确地复制在涂有光