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半导体光刻胶行业研究:破晓而生,踏浪前行
半导体光刻胶行业研究:破晓而生,踏浪前行1.光刻胶:图形转移介质,在泛半导体产业广泛应用光刻胶本质是一种感光材料,也称光致抗蚀剂,主要用于微 电子技术中微细图形加工。在紫外光、电子束、离子束、X 射线
国产光刻胶,破晓而生,踏浪前行
光刻胶:图形转移介质,在泛半导体产业广泛应用光刻胶本质是一种感光材料,也称光致抗蚀剂,主要用于微电子技术中微细图形加工。在紫外光、电子束、离子束、X 射线等照射或辐射下,光刻胶溶解度会发生变化,再经
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1.光刻胶:图形转移介质,在泛半导体产业广泛应用光刻胶本质是一种感光材料,也称光致抗蚀剂,主要用于微电子技术中微细图形 加工。在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下,光刻胶溶解度会发 生变化,
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