腾讯文库搜索-半导体晶圆制造中的先进生产计划方法-半导体工艺与制造
半导体制造工艺08扩散下课件
- 如何判断对费克定律应用何种解析解?当表面浓度为固溶度时,意味着该分布是余误差分布当表面浓度较低时,意味着该分布是经过长时间的推进过程,是高斯分布。 - 费克定律解析解的应用
半导体制造中常用化学品
半导体制造中常用化学品半导体制造过程中常用的酸名称符号用途氢氟酸HF刻蚀二氧化硅(SiO2)以及清洗石英器皿盐酸HCl湿法清洗化学品,2号标准清洗液的一部分,用来去除硅中的重金属元素硫酸H2SO4“p
晶圆封装测试工序和半导体制造工艺流程资料
A.晶圆封装测试工序一、 IC检测 1. 缺陷检查Defect Inspection 2. DR-SEM(Defect Review Scanning Electron Microscopy) 用来检
精选半导体制造工艺简介
- 学习目的 - (1)了解晶体管工作原理,特别是MOS管的工作原理(2)了解集成电路制造工艺(3)了解COMS工艺流程 - -
浙江芯智道半导体科技有限公司介绍企业发展分析报告
浙江芯智道半导体科技有限公司 企业发展分析结果企业发展指数得分企业发展指数得分浙江芯智道半导体科技有限公司综合得分说明:企业发展指数根据企业规模、企业创新、企业风险、企业活力四个维度对企业发展情况进
半导体制造工艺_05光刻(下)
- 光刻胶的一些问题 - 1、由于硅片表面高低起伏,可能造成曝光不足或过曝光。 - 线条宽度改变! - <#>
半导体制造工艺_08扩散(下)
- 上节课主要内容 - 1、掺杂工艺一般分为哪两步?结深?薄层电阻?固溶度? - 2、两种特殊条件下的费克第二定律的解及其特点?特征扩散长度?
精选半导体制造工艺第1章绪论
- 张渊 主编 - 半导体制造工艺 - 高职高专“十二五”电子信息类专业规划教材 - 第1章 绪 论
半导体制造工艺第7章光刻
- 半导体制造工艺 - 第7章 光 刻 - 第7章 光 刻 - 7.1 概述7.2 光刻工艺的基本步骤7.3
半导体物理习题答案资料
第一章半导体中的电子状态 例1. 证明:对于能带中的电子,K状态和-K状态的电子速度大小相等,方向相反。即:v(k)= -v(-k),并解释为什么无外场时,晶体总电流等于零。解:K状态电子的速度为:
先进生产计划及调度APS在半导体制造业中面临的挑战和机遇
- 先进生产计划及调度 (APS)在半导体制造业中面临的挑战和机遇 - IE&EMAdvanced Planning / Scheduling (APS) in Se
半导体晶圆制造车间层控制的内容及方法
半导体晶圆制造车间层控制的内容及方法摘要:半导体晶圆制造企业是资本密集、技术密集型产业,晶圆制造厂也是公认生产最为复杂的工厂之一。产品更新换代快、市场竞争激烈等特点使得投资者对设备产能和设备利用率高度