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- 第四章:离子注入 - 掺杂技术之二 - 为什么开发离子注入技术?随着器件特征尺寸的减小,出现的一些特殊的掺杂(如小剂量浅结掺杂、

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- 第 5 章 离子注入 - 离子注入是另一种对半导体进行掺杂的方法。将杂质电离成离子并聚焦成离子束,在电场中加速而获得极高的动能后,注入到硅中(称为 “靶” )

《离子注入技术》课件

- 《离子注入技术》ppt课件 - 离子注入技术概述离子注入技术的基本原理离子注入设备的结构与功能离子注入技术的主要工艺参数离子注入技术在半导体制造中的应用离子注入技术的

《离子注入技术》课件2

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- 离子束加工方式可分为 1、掩模方式(投影方式) 2、聚焦方式(扫描方式,或聚焦离子束(FIB)方式) - 掩模

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- 集成电路制造技术 第四章 离子注入 - 西安电子科技大学微电子学院戴显英2013年9月 - 本章主要内容 - 离子注入

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- 第四章 离子注入 - - 4.1离子注入设备与工艺4.2核碰撞和电子碰撞4.3注入离子在无定形靶中的分布4.4注入损伤4.5热退火

《离子注入》PPT课件

- 第四章 离子注入 - 本章内容 - 概述离子注入基本原理射程与注入离子的分布离子注入设备系统实际的入射离子分布问题注入损伤与退火离子注入在MOS

《理学离子注入》PPT课件

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《离子注入》PPT课件 (2)

- 第八章:离子注入 - 掺杂技术之二 - 8.1 引 言 - 离子注入的概念: 离子注入是在高真空的

《掺杂技术离子注入》课件

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