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第7章光刻胶
- 第七章 光 刻 胶 - 第三篇 单项工艺2 - 光刻胶也称为 光致抗蚀剂(Photoresist,P. R.)。
第7章光刻胶
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第3篇第八章光刻胶
- 微电子工艺原理与技术 - 李 金 华 - 臂劳咒喜喝自戈赂疑盈妇甄叹朱膨岁雀陷视知添墅保夕椰乙恃愉诉屋牺势第3篇第八章光刻胶第3篇第八章光刻胶
第3篇第八章光刻胶
- 微电子工艺原理与技术 - 第八章 光 刻 胶 - 第三篇 单项工艺2 - 主要内容
《篇第八章光刻胶》课件
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【学习课件】第3篇第八章光刻胶
第12章光刻掩膜光刻胶和光刻机ppt课件
- 光刻是一种图象复印的技术,是集成电路制程中一项关键的工艺技术。在整个工艺流程中,光刻的步骤占到50%以上,其成本占总制造成本的1/3以上。 - 光刻:Phot
第12章 光刻:掩膜,光刻胶和光刻机
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【学习课件】第3篇第八章光刻胶图
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第15章光刻光刻胶显影和先进的光刻技术ppt课件
- * - 集成电路工艺 - * - 目标 - 如何对光刻胶进行曝光后烘培以及原因描述光刻胶的正负胶显影
光刻胶
- 光刻胶 - 一、光刻胶的类型 凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶,简称负胶。
国产光刻胶行业市场分析报告
国产光刻胶行业市场分析报告2022年7月20%o图表9: 2075-25中国半导体光刻胶市场占全球比重硅片及硅基材料■掩膜版■光刻胶.光刻胶辅助试剂■湿化学品■电子气体靶材CMP抛光材料 □ 中国