第15章光刻光刻胶显影和先进的光刻技术ppt课件

- * - 集成电路工艺 - * - 目标 - 如何对光刻胶进行曝光后烘培以及原因描述光刻胶的正负胶显影

光刻实验报告

光刻实验一.实验目的了解光刻在样品制备工艺中的作用，熟悉光刻工艺的步骤和操作二.实验原理光刻是一种复印图象与化学腐蚀相结合的综合性技术，它先采用照像复印的 方法，将光刻掩模板上的图形精确地复制在涂有光

光刻实验报告

光刻实验一．实验目的了解光刻在样品制备工艺中的作用，熟悉光刻工艺的步骤和操作。二．实验原理 光刻是一种复印图象与化学腐蚀相结合的综合性技术，它先采用照像复印的方法，将光刻掩模板上的图形精确地复制

光刻实验报告

光刻实验一．实验目的了解光刻在样品制备工艺中的作用，熟悉光刻工艺的步骤和操作。二．实验原理 光刻是一种复印图象与化学腐蚀相结合的综合性技术，它先采用照像复印的方法，将光刻掩模板上的图形精确地复制

光刻实验报告

光刻试验一．试验目的理解光刻在样品制备工艺中的作用，熟悉光刻工艺的环节和操作。二．试验原理 光刻是一种复印图象与化学腐蚀相结合的综合性技术，它先采用照像复印的措施，将光刻掩模板上的图形精确地复制

光刻技术研究进展

光刻技术研究进展 林奕宏 19920111152761 （厦门大学 非硅微纳研究所，物理与机电学院，福建 厦门 361005） 关键词：光刻；下一代光刻技术；深紫外线光刻；角度限制散

ArF浸没式光刻技术研究及光刻仿真辅助设计软件开发

分类号 密级 编号 UDC 鬻8U81 03 △逝遗逡式堂刻撞苤硒究区迸刻笾真箍邈遮让筮 鲑珏筮 申请学位级别 亟± 学科专业名称电力电壬及电力焦动 论文提交日期 2QQ垒!12 论文答辩日期 2QQ

《光学光刻》课件

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光刻技术的发展与应用

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光刻原理和技术

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9非光学光刻

- * - 9.1 高能束与物体之间的相互作用 - 本节主要讨论 X 射线、电子束、离子束与固体之间的相互作用。