腾讯文库搜索-区熔法制备单晶硅
一种在单晶硅衬底上制备金字塔阵列的方法
一种在单晶硅衬底上制备金字塔阵列的方法专利名称:一种在单晶硅衬底上制备金字塔阵列的方法技术领域:本发明涉及一种在单晶硅衬底上制备金字塔阵列的方法,属于光伏和半导体器件制造技术领域。背景技术:大小均一、
化学法提纯单晶硅
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直拉法单晶硅的工艺改进
直拉法单晶硅制备的工艺改进 姓名:陈胜皇 班级:新能源材料与器件 学号:1303230004 摘要:单晶硅根据硅生长方向的不同分为区熔单晶硅,外延单晶硅和直拉单晶硅。直拉单晶硅的制备工艺一般包括多晶硅
单晶硅直拉法降氧实验进展报告
降氧试验进展报告汇报人:王思锋一、试验目的:降低单晶硅晶棒头部氧含量。二、降氧原理:在CZ 法生长中, 氧不行避开地掺入硅单晶。其途径是氧从石英(SiO2) 坩埚溶解进入硅熔体, 溶解的氧经由熔体的对
单晶硅衬底上制备钛酸锶薄膜择优取向与研究
A Yang Thesis in Materials Physics and Chemistry Investigation of Preferred Orientation of SrTi03 Fi
2024年单晶硅拉制工安全操作规程
2024年单晶硅拉制工安全操作规程第一章 总 则第一条 为了保障单晶硅拉制工作的安全,预防事故发生,提高工作效率,根据相关法律法规和国家标准,制定本操作规程。第二条 适用范围:本操作规程适用于全体从事
直拉法单晶硅生长技术的现状
直拉法单晶硅生长技术的现状 摘要 综述了制造集成电路(IC)用直拉硅单晶生长的现状与发展。对大直径生长用磁场拉晶技术,硅片中缺陷的控制与利用(缺陷工程),大直径硅中新型原生空位型缺陷,硅外延片与SOI
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直拉法单晶硅生长技术的现状摘要综述了制造集成电路(IC)用直拉硅单晶生长的现状与发展。对大直径生长用磁场拉晶技术,硅片中缺陷的控制与利用(缺陷工程),大直径硅中新型原生空位型缺陷,硅外延片与SOI片,
课件用定稿单晶硅棒工艺介绍
- 单晶硅棒工艺介绍 - 山西潞安太阳能科技有限责任公司 - - Contents
大尺寸单晶硅项目可行性研究报告
大尺寸单晶硅项目可行性研究报告本报告是针对行业投资可行性研究__服务的专项研究报告,此报告为个性化定制服务报告,我们将根据不同类型及不同行业的项目提出的具体要求,修订报告目录,并在此目录的基础上重新完
单晶硅实习报告
单晶硅实习报告篇一:Si单晶太阳能电池生产实习报告Si单晶太阳能电池生产实习报告一、 实践目的学习Si太阳能电池片的制造工艺原理,初步了解和掌 握太阳能电池的整个生产制造流程的工艺技术。学习每个工 艺
用开路电压法测单晶硅太阳能电池少数载流子寿命实验报告
用开路电压法测单晶硅太阳能电池少数载流子寿命实验报告 实验报告 姓名:张伟楠班级:F学号:实验成绩:同组姓名:张家鹏实验日期:指导教师:批阅日期: 太阳能电池伏安特性的测量 【实验目的