腾讯文库搜索-四探针法测电阻率
半导体电阻率及其与杂质浓度和温度
- 4.4 电阻率及其与杂质浓度和温度的关系 习惯用电阻率来讨论问题(四探针法) - - -
半导体测试与分析
- 半导体材料的测试分析 - - 蚁庚榜酝雏验未坠社哀谦酸组屋配小廉仗继莫尾胞味凭役膨握肩涎壮垂漳半导体测试与分析半导体测试与分析
2022届全国高三物理模拟试题汇编:电阻定律附答案
- 电阻定律一、单选题1.高压线是非常危险的远距输电线,但是我们也经常会看到许多鸟儿双脚站上面却相安无事。小蒋为了弄清其中的道理特别查阅了当地的一组数据:高压线输送电功率𝑃 = 6.4 × 104𝐾𝑊
金属薄膜电阻率的测量
5 金属薄膜电阻率的测量实验目的熟悉四探针法测量电阻率和薄层电阻的原理及测量方法。了解影响电阻率的测量的各种因素及改进措施。实验仪器RTS-5 型双电测四探针测试仪实验原理双电测组合四探针法采用了以下
三氯氢硅中的痕量杂质的化学光谱检测公开课获奖课件百校联赛一等奖课件
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4金属薄膜电阻率的测量
5 金属薄膜电阻率的测量一. 实验目的 熟悉四探针法测量电阻率和薄层电阻的原理及测量方法。 了解影响电阻率的测量的各种因素及改进措施。二. 实验仪器RTS-5 型双电测四探针测试仪三. 实验原理双电测
硕士学位论文中期报告(崔虹云)
哈 尔 滨 工 业 大 学硕 士 学 位 论 文 中 期 报 告姓 名 崔虹云学 号 07SG21901院 (系) 航天学院学 科 微电子科学与技术系导 师 刘晓为论 文 题 目多晶硅纳米膜欧姆接触特
三氯氢硅中的痕量杂质的化学光谱检测
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《金属薄膜电阻率的测量》鉴定报告
《金属薄膜电阻率的测量》鉴定报告一、主题把当今高新技术领域中的科研开发和生产中实际应用的物理测量技术放到大学本科的普通物理实验教学中,不断提高和更新普通物理实验教学的档次,使普通物理实验教学更贴近当今
KDY-1型四探针电阻率方阻测试仪说明书11.01.10
KDY-1型四探针电阻率/方阻测试仪 使用说明书1、概述KDY-1型四探针电阻率/方阻测试仪(以下简称电阻率测试仪)是用来测量半导体材料(主要是硅单晶、锗单晶、硅
硅材料的形态(共6篇)
硅材料的形态(共6篇) 2、举例说明晶体缺陷主要类型。 晶体缺陷主要包含有以下四种,分别为:点缺陷、线缺陷、面缺陷和体缺陷 点缺陷:弗伦克尔缺陷、肖特基缺陷 线缺陷:位错(棱位错、刃位
HAD2258C型多功能数字式四探针测试仪
仪器在线HAD2258C型多功能数字式四探针测试仪技术使用说明书2013.09.20版北京恒奥德仪器仪表有限公司目录第1章 概述 1第2章 技术参数 1第3章 工作原理 2第4章 结