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《光刻工艺概述》课件

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《集成电路光刻工艺》PPT课件

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第8章光刻与刻蚀工艺ppt课件

- 光刻与刻蚀的定义 - 光刻工艺的重要性:IC设计流程图,光刻图案用来定义IC中各种不同的区域,如:离子注入区、接触窗、有源区、栅极、压焊点、引线孔等主流微电子制造过程中,光刻

《集成电路光刻工艺》课件

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《光刻清洗工艺简介》PPT课件

- 大 纲 - 光刻工艺介绍一、光刻概述二、工艺流程三、主要工艺设备介绍四、其他清洗工艺介绍一、清洗概述二、常用湿法清洗(腐蚀)方法三、清洗机及超声清洗四、等离子清洗机五、常用

《光刻清洗工艺简介》PPT课件

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光刻光刻胶和刻蚀课件

- 2.4 光刻技术 - 2.4.1 光刻工艺概述2.4.2 光刻胶2.4.3 涂胶2.4.4 对位和曝光2.4.5 显影 - 2.4 光刻技术 2.4.

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《集成电路光刻工艺》课件

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微电子工艺基础光刻工艺课件

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光刻工作总结报告ppt课件

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光刻工艺流程 PPT课件

- 目录 - 光刻胶的定义及其作用光刻胶的成分光刻胶的主要技术参数光刻胶的分类光刻胶的主要应用领域光刻工艺流程 - 定义: 光刻胶(Ph