磁控溅射镀膜机

圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理孙东明摘要：介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法．并对如何发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析．关键词：磁控溅射；靶；真空

磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜-海南大学材料与化工学院 专业实验报告 课程:材料表面工程 学院:材料与化工 年级/专业:10材料2班 日期:2013年5月20日 实验名称 磁控溅射镀膜 教师签名 成绩 姓名、学号 同组

磁控溅射镀膜工艺

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磁控溅射镀膜技术1

- 一、引言 - 荷能粒子（例如氩离子）轰击固体表面，引起表面各种粒子，如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中，通常是应用氩气电离产生的正离子轰击

磁控溅射镀膜技术12

- 一、引言 - 荷能粒子（例如氩离子）轰击固体表面，引起表面各种粒子，如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中，通常是应用氩气电离产生的正离子轰击

磁控溅射镀膜原理及工艺

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磁控溅射镀膜技术简述

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高真空磁控溅射镀膜系统介绍

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磁控溅射镀膜工艺

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《磁控溅射镀膜技术》课件

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磁控溅射镀膜工艺介绍

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磁控溅射镀膜原理及工艺〔总 11页〕-本页仅作为文档封面，使用时请直接删除即可--内页可以依据需求调整适宜字体及大小-磁控溅射镀膜原理及工艺摘要:真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活