磁控溅射镀膜机

圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理孙东明摘要：介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法．并对如何发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析．关键词：磁控溅射；靶；真空

磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜-海南大学材料与化工学院 专业实验报告 课程:材料表面工程 学院:材料与化工 年级/专业:10材料2班 日期:2013年5月20日 实验名称 磁控溅射镀膜 教师签名 成绩 姓名、学号 同组

磁控溅射镀膜机技术规格

磁控溅射镀膜机技术规格1. 货物名称、数量 磁控溅射镀膜机1套 2. 工作条件及用途 2.1 工作条件 2.1.1 能在电源电压380?10%V、50?2%Hz、室温0?~40?的环境下连续正常工作。

高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明

高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明沈阳天成真空技术有限责任公司20011年12月高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明本磁控溅射设备是受吉林大学的委托，根据双方签署的技术合同要求而研制的。本磁控溅射设备可装卡

磁控溅射镀膜工艺

大面积磁控溅射工艺  1、介绍在玻璃或卷材上制备的用于建筑、汽车、显示器和太阳能应用的光学多层膜是利用反应磁控溅射以具有可重复的稳定的高沉积率进行生产的。在整个基底宽度上的良好膜厚均匀性和适当的工艺长

磁控溅射镀膜原理及工艺

磁控溅射镀膜原理及工艺摘要：真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的磁控溅射镀

磁控溅射镀膜技术12

- 一、引言 - 荷能粒子（例如氩离子）轰击固体表面，引起表面各种粒子，如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中，通常是应用氩气电离产生的正离子轰击

磁控溅射镀膜技术1

- 一、引言 - 荷能粒子（例如氩离子）轰击固体表面，引起表面各种粒子，如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中，通常是应用氩气电离产生的正离子轰击

磁控溅射镀膜机PLC控制系统1

磁控溅射镀膜机的PLC控制系统1磁控溅射镀膜机的PLC控制系统设计 磁控溅射镀膜技术已经被广泛应用在了薄膜制备领域，磁控溅射镀膜设备摘 要:在控制系统设计上对稳定运行有相当大的需求。本文介绍了真空磁控

高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明

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高真空磁控溅射镀膜系统介绍

高真空磁控溅射镀膜系统介绍1. 设备简介                                                    ● 名称： 高真空磁控溅射镀膜系统● 型号：JGP560

磁控溅射镀膜技术简述

磁控溅射镀膜技术简述磁控溅射镀膜技术简述 科技前沿?Frontline 磁控溅射镀膜技术简述 撰文/刘瑞鹏李刘合 上世纪80年代开始,磁控溅射技术得到迅猛的发 展,其应用领域得到了极大地推广.现在磁控