CVD和PVD工艺比较

- 概述：同PVD工艺相比，CVD的最大优势就是良好的阶梯覆盖性能，同时具有便于制备复合产物、不需高真空和淀积速率高等优点。CVD技术在19世纪60年代被引入半导体材料制备并快速发展。

CVD和PVD工艺比较

- 概述：同PVD工艺相比，CVD旳最大优势就是良好旳阶梯覆盖性能，同步具有便于制备复合产物、不需高真空和淀积速率高等优点。CVD技术在19世纪60年代被引入半导体材料制备并迅速发展。

PVD工艺

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薄膜沉积PVD和CVD

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