腾讯文库搜索-《集成电路光刻工艺》课件
光刻与刻蚀工艺［PPT课件］
- 微电子工艺学 Microelectronic Processing 第六章 光刻与刻蚀工艺 - 张道礼 教授Email: zhang-daoli@163.comVoic
第8章光刻与刻蚀工艺ppt课件
- 光刻与刻蚀的定义 - 光刻工艺的重要性：IC设计流程图，光刻图案用来定义IC中各种不同的区域，如：离子注入区、接触窗、有源区、栅极、压焊点、引线孔等主流微电子制造过程中，光刻
《光刻清洗工艺简介》PPT课件
- 大 纲 - 光刻工艺介绍一、光刻概述二、工艺流程三、主要工艺设备介绍四、其他清洗工艺介绍一、清洗概述二、常用湿法清洗（腐蚀）方法三、清洗机及超声清洗四、等离子清洗机五、常用
《光刻清洗工艺简介》PPT课件
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光刻工艺流程 PPT课件
- 目录 - 光刻胶的定义及其作用光刻胶的成分光刻胶的主要技术参数光刻胶的分类光刻胶的主要应用领域光刻工艺流程 - 定义: 光刻胶(Ph
《基本光刻工艺》PPT课件
- 第八章 基本光刻工艺流程 - 光刻的目的和意义第四章已做过简单的描述，这一章主要介绍基本光刻工艺中的表面准备至曝光的工艺步骤及光刻胶的特性。8.1 简介
《光刻工艺B》PPT课件
- 光刻工艺 - - 参考资料：《微电子制造科学原理与工程技术》第7、8章（电子讲稿中出现的图号是该书中的图号） -
《光刻工艺概述》PPT课件
- * - * - 第8章 光刻工艺概述8.1 光刻技术的发展8.2 光刻工艺流程8.3 光刻技术
《微电子工艺基础光刻工艺》PPT课件教案
- It is applicable to work report, lecture and teaching - - 微电子工艺基础光刻工艺
教学课件：第八章光刻与刻蚀工艺
- 集成电路制造技术 第八章 光刻与刻蚀工艺 - 西安电子科技大学微电子学院戴显英2013年9月 - 主要内容 - 光刻的重
第15章光刻光刻胶显影和先进的光刻技术ppt课件
- * - 集成电路工艺 - * - 目标 - 如何对光刻胶进行曝光后烘培以及原因描述光刻胶的正负胶显影
光刻与刻蚀工艺流程
- 光刻、显影工艺简介 - 光刻胶( Photo-resist )概述+PR 和 –PR的区别描述光刻工艺的步骤四种对准和曝光系统 -
