磁控溅射靶靶型分类

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磁控溅射靶的设计经验

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高性能磁控溅射靶枪的设计

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磁控溅射镀膜机

圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理孙东明摘要：介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法．并对如何发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析．关键词：磁控溅射；靶；真空

高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明

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圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理

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磁控溅射镀膜

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BZT-BCT薄膜双靶磁控溅射制备和电性能

国内图书分类号：TN155国际图书分类号: 621.785工学硕士学位论文学校代码:10213密级：公开BZT-BCT 薄膜双靶磁控溅射制备与电性能硕 士 研 究 生：赵悦导 师：李伟力 教授申 请

高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明

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一种全靶腐蚀磁控溅射真空镀膜设备

- 一种全靶腐蚀磁控溅射设备(1) 　　传统的磁控溅射设备由于等离子体在靶面形成跑道效应, 所以存在着靶材利用率低, - 反应溅射过程中稳定性差的问题。M.J. Thwa