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射频磁控溅射法制备ZnOAl2O3薄膜及其界面特性研究(精)

射频磁控溅射法制备ZnO/Al2O3薄膜及其界面特性研究摘要:近些年来,由于ZnO薄膜优异的性能,吸引着越来越多的人对其进行研究。人们尝试利用不同的方法制备ZnO薄膜,并研究了不同的实验参数对ZnO薄

磁控溅射法制备薄膜材料实验研究报告

螇实验一 磁控溅射法制备薄膜材料莈实验目地羃 1、详细掌握磁控溅射制备薄膜地原理和实验程序; 薃 2、制备出一种金属膜,如金属铜膜; 蒀 3、测量制备金属膜地电学性能和光学性能; 袄

磁控溅射法制备非晶硅薄膜及其性能研究

万方数据A Thesis in Fluid and By Liu Ba Dechun Associate Supervisor:Associate Professor Kun Machinery En

射频磁控溅射法制备薄膜电池电极的计算机模拟初步

射频磁控溅射法制备薄膜电池电极的计算机模拟初步第 19 卷 第 3 期 大 学 物 理 实 验 Vol . 19 No . 3 2006 年 9 月出版 PHYSICAL EXPERIMENT OF

射频磁控溅射方法制备CaCu3Ti4O12薄膜及其介电性质研究

射频磁控溅射方法制备CaCu3Ti4O12薄膜及其介电性质研究,、 一 、 (, , (, , 独创性声明 本人郑重声明:所提交的学位论文是本人在导师指导下独立进行研究工作所取得的成果。据我所知,除了

磁控溅射法制备薄膜材料实验研究报告

衿实验一 磁控溅射法制备薄膜材料葿实验目地羆 1、详细掌握磁控溅射制备薄膜地原理和实验程序; 袂 2、制备出一种金属膜,如金属铜膜; 罿 3、测量制备金属膜地电学性能和光学性能; 袀

磁控溅射制备SiC薄膜与性能及研究

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磁控溅射法制备si基TiN薄膜及其性能表征

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磁控溅射制备钼、钨薄膜及其结构性能研究

西安理工大学硕士学位论文Absn硼 W tlle砷al propenies,iI面ng d谢ng TitIe: STUDY oN PROPERTIES AND STRUCTURE OF Mo Fl L

射频反应磁控溅射制备VOx薄膜

<> 全部__: 李建峰 吴志明 王涛 魏雄邦 黎威志 第1__单位: 电子科技大学光__息学院电子薄膜与集成器

磁控溅射制备NiO薄膜光电特性研究

分类号: CHARACTERIZATl0N £lQ!竖2 学科专业名称及代码:塑盟王堂皇崮住咀士芏(Q8Q2Q2 2 研究方向:血王堕璺当ME坚基丕 申请学位级别:亟 ± 指导教师: 研究生:当攫鳌

磁控溅射制备ZnO透明导电薄膜的研究的开题报告

磁控溅射制备ZnO透明导电薄膜的研究的开题报告一、研究背景透明导电薄膜在太阳能电池,液晶显示和光电器件等领域有广泛的应用。然而,传统的透明导电材料如ITO(氧化铟锡),由于铟和锡资源稀缺且成本较高,同