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微细加工光刻胶
- 第 8 章 光刻胶 - 一、光刻胶的类型 凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶称为 负性光刻胶,简称 负胶。
《微细加工光刻胶》课件
- - 《微细加工光刻胶》PPT课件 - 在微细加工中,光刻胶发挥着至关重要的作用。本课件将介绍光刻胶的种类、制备流程、微细加工技术的应用和发展趋势。
《微细加工光刻胶》PPT课件
- 第 8 章 光刻胶 - 一、光刻胶的类型 凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶称为 负性光刻胶,简称 负胶。
微细和纳米加工技术 光学曝光技术(2.4 光刻胶的特性)
- ★光刻胶是指一大类具有光敏化学作用的高分子聚合物材料。★光刻胶又称为“抗蚀剂”,因为它的作用就是作为抗刻蚀层保护晶圆表面。★光刻胶只是一种形象的说法,因为这类聚合物从外观上呈现为胶状液体。
光刻胶
- 光刻胶 - 一、光刻胶的类型 凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶,简称负胶。
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光刻胶综述发表时间: 2007-1-07 10:32 作者: chl 来源: 半导体技术天地字体: 小 中 大 | 打印 光刻胶又称光致抗蚀剂(photoresist), 是利用光化学反应
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