腾讯文库搜索-第三章溅射薄膜制备技术

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磁控溅射法沉积TCO薄膜的电源技术

磁控溅射法沉积TCO薄膜的电源技术1前言透明导电氧化物薄膜(TCO薄膜)有着广泛的用途,如作为LCD、OLED显示器面板的电极,作为触摸屏的感应电极,作为薄膜太阳能电池的电极以及作为LED芯片前电极等

磁控溅射金属薄膜的制备

磁控溅射薄膜金属的制备黎明烟台大学环境与材料工程学院 山东烟台 111E-mail: 1111111@qq.com摘 要: 金属与金属氧化物在气敏、光催化与太阳能电池等方面有着极为重要的应用,

BZT-BCT薄膜双靶磁控溅射制备和电性能

国内图书分类号:TN155国际图书分类号: 621.785工学硕士学位论文学校代码:10213密级:公开BZT-BCT 薄膜双靶磁控溅射制备与电性能硕 士 研 究 生:赵悦导 师:李伟力 教授申 请

薄膜物理第2章溅射镀膜

- 第二章 薄膜制备的物理方法( Ⅱ ) 2.3 溅射镀膜 - 宋春元 博士材料科学与工程学院 - 薄膜材料与技术 - 2.3

磁控溅射法制备TiN颜色薄膜分析

武汉理工大学硕士毕业论文分类号UDC学题 目位 论密 级学校代码 10497文磁控溅射法制备 TiN 颜色薄膜的研究英 文 Research on the colored TiN thin films

磁控溅射制备ZnO透明导电薄膜的研究的开题报告

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磁控溅射法制备cds薄膜及性能表征

密 级公开学 号毕 业 设 计(论 文)磁控溅射法制备CdS薄膜及性能表征 院(系、部): 材料科学与工程学院 姓 名: 于宇新 年 级: 2024

磁控溅射法制备薄膜材料实验研究报告

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磁控溅射法制备si基TiN薄膜及其性能表征

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磁控溅射制备氮化物薄膜及其表征的开题报告

磁控溅射制备氮化物薄膜及其表征的开题报告一、研究背景及意义随着半导体、光电子等领域的发展,氮化物材料在新型材料中占有重要地位。氮化物具有高硬度、高熔点、高抗氧化性等特点,在电子器件制造、光伏发电等领域

磁控溅射法制备非晶硅薄膜及其性能研究

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磁控溅射法制备薄膜材料实验报告

实验一  磁控溅射法制备薄膜材料1、实验目的1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序; 2、制备出一种金属膜,如金属铜膜;  3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能;  4、掌握实验数据处理和分析