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光刻胶综述
光刻胶综述发表时间: 2007-1-07 10:32 作者: chl 来源: 半导体技术天地字体: 小 中 大 | 打印 光刻胶又称光致抗蚀剂(photoresist), 是利用光化学反应
双层光刻胶数据
双层光刻胶制备T型结构参数工艺参数衬底:硅片;第一层胶:ARP5460,用4000rpm甩胶,160摄氏度硬烘烤5分钟,约1.5微米厚;第二层胶:SU8-2050,用2500rpm甩胶,60摄氏度硬烘
化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的中期报告
化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的中期报告本次报告主要介绍了化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的研究进展情况。1. 背景介绍随着芯片制造技术的发展,要求光刻胶具有更高的分辨率、更大的深度和更
年度光刻胶树脂战略市场规划报告
光刻胶树脂战略市场规划报告目录TOC \h \z HYPERLINK \l _Toc29814 前言 PAGEREF _Toc29814 \h 3 HYPERLINK \l _Toc24898 一
化学放大光刻胶高分子材料研究进展
化学放大光刻胶高分子材料研究进展王春伟,李弘?,朱晓夏(南开大学高分子化学研究所,吸附分离功能高分子材料国家重点实验室,天津300071)摘要:综合论述了化学放大光刻胶类高分子材料,并着•重介绍193
光刻胶
- 光刻胶 - 一、光刻胶的类型 凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶,简称负胶。
半导体 第十一讲 光刻胶的研究进展
- 第十一讲 - 光刻胶的研究进展 - 内容 - 光刻胶:正胶与反胶光刻胶的涂敷和显影非光学光刻技术深亚微米光刻的新光刻
ULSI用193nm光刻胶的研究进展
第!!卷第" 期! # # " 年 " 月精 细 化 工!"#$ %&$’"%()*$%&’ !!,(%’ ")*+ ! # # "电子化学品+)*" 用 ,-. /0 光刻胶的研究进展!郑金红,黄志
年度光刻胶专用化学品战略市场规划报告
光刻胶专用化学品战略市场规划报告目录TOC \h \z HYPERLINK \l _Toc19104 前言 PAGEREF _Toc19104 \h 4 HYPERLINK \l _Toc1847
化工行业:光刻胶,国产化正当时,龙头公司放量在即
■ 风险提示事件:光刻胶研发不及预期,光刻胶下游客户认证不及预期。2光刻胶竞争格局光刻胶行业由于技术壁垒高并且要与光刻设备协同研发,呈现出寡头竞争的格局。 目前全球前五家日本合成橡胶、东京日化、罗门哈
化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的综述报告
化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的综述报告化学增幅光刻胶是一种高分辨率光刻胶,能够在纳米和亚纳米级别上进行制造和加工。由于其高分辨率和高灵敏度,化学增幅光刻胶已经成为电子束光刻中的常见选择。本文
含氟紫外纳米压印光刻胶的研制_赵彬
含氟紫外纳米压印光刻胶的研制_赵彬 加工、测量与设备 ,MProcessineasurementandEuiment gqp 含氟紫外纳米压印光刻胶的研制 赵 彬1,周伟民2