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光刻胶综述

光刻胶综述发表时间: 2007-1-07 10:32    作者: chl    来源: 半导体技术天地字体: 小 中 大 | 打印 光刻胶又称光致抗蚀剂(photoresist), 是利用光化学反应

双层光刻胶数据

双层光刻胶制备T型结构参数工艺参数衬底:硅片;第一层胶:ARP5460,用4000rpm甩胶,160摄氏度硬烘烤5分钟,约1.5微米厚;第二层胶:SU8-2050,用2500rpm甩胶,60摄氏度硬烘

化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的中期报告

化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的中期报告本次报告主要介绍了化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的研究进展情况。1. 背景介绍随着芯片制造技术的发展,要求光刻胶具有更高的分辨率、更大的深度和更

年度光刻胶树脂战略市场规划报告

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化学放大光刻胶高分子材料研究进展

化学放大光刻胶高分子材料研究进展王春伟,李弘?,朱晓夏(南开大学高分子化学研究所,吸附分离功能高分子材料国家重点实验室,天津300071)摘要:综合论述了化学放大光刻胶类高分子材料,并着•重介绍193

光刻胶

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半导体 第十一讲 光刻胶的研究进展

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ULSI用193nm光刻胶的研究进展

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年度光刻胶专用化学品战略市场规划报告

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化工行业:光刻胶,国产化正当时,龙头公司放量在即

■ 风险提示事件:光刻胶研发不及预期,光刻胶下游客户认证不及预期。2光刻胶竞争格局光刻胶行业由于技术壁垒高并且要与光刻设备协同研发,呈现出寡头竞争的格局。 目前全球前五家日本合成橡胶、东京日化、罗门哈

化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的综述报告

化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用的综述报告化学增幅光刻胶是一种高分辨率光刻胶,能够在纳米和亚纳米级别上进行制造和加工。由于其高分辨率和高灵敏度,化学增幅光刻胶已经成为电子束光刻中的常见选择。本文

含氟紫外纳米压印光刻胶的研制_赵彬

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