光刻胶配套试剂项目可行性研究报告

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《微细加工光刻胶》PPT课件

- 第 8 章 光刻胶 - 一、光刻胶的类型 凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为 负性光刻胶，简称 负胶。

光刻胶

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双层光刻胶数据

双层光刻胶制备T型结构参数工艺参数衬底：硅片；第一层胶：ARP5460，用4000rpm甩胶，160摄氏度硬烘烤5分钟，约1.5微米厚；第二层胶：SU8-2050,用2500rpm甩胶，60摄氏度硬烘

微细和纳米加工技术 光学曝光技术（2.4 光刻胶的特性）

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光刻胶与光刻工艺技术

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KrF化学增幅光刻胶在90nm逻辑工艺上的性能评价与优化的工艺条件

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《微细加工光刻胶》课件

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光刻胶行业报告

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SOC材料与工艺2(光刻胶非光学光刻刻湿)

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新型紫外纳米压印光刻胶的研究开题报告

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