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国内硅烷法制备电子级区熔用多晶硅的进展分析

国内硅烷法制备电子级区熔用多晶硅的进展分析半导体材料中用量最大和用途最广的是半导体硅,半导体级多晶硅广泛应用于微电子、晶体管及集成电路、半导体器件等半导体工业中。电子级多晶硅是半导体器件、集成电路、大

硅烷法制备多晶硅分析报告

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硅烷流化床法制备颗粒多晶硅

流化床颗粒多晶硅技术介绍Steve Chu, Ph.D.Sunn yside Tech no logies, Inc2010 Henn epin Ave E, Mi nn eapolis, MN 55

硅烷法多晶硅制备技术

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硅烷法多晶硅制备技术

- 硅烷法多晶硅生产工艺的优势 - 耗电低。硅烷的分解温度为800℃,而主流的三氯氢硅法反应温度在1150℃左右,故还原电耗较低。硅烷容易分解,材料利用率高。污染小。与多晶硅制备

硅烷法多晶硅制备技术

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电子级多晶硅项目可行性研究报告

- 电子级多晶硅项目可行性研究报告 - 本报告用于发改委立项 政府批地 银行融资 - 让投资更安全 经营更稳健 - 中投信德产

电子级多晶硅生产技术探讨

电子级多晶硅生产技术探讨    刘刚摘  要:本文首先介绍了电子级多晶硅生产的相关内容,分析了电子级多晶硅生产技术,并结合相关实践经验,分别从多个角度与方面,就国内电子级多晶硅项目技术特点展开了探讨,

硅烷化学气相沉积制备多晶硅过程的研究

硅烷化学气相沉积制备多晶硅过程的研究—— 流化床反应器的模拟与空管反应器的实验报告人:刘思思 博士生E-mail: ssliu0504@gmail.com导 师:肖文德 教授E-mail: wdxia

国家标准电子级多晶硅

ICS 29.045H82前 言本标准代替GB/T 12963-2009《硅多晶》。本标准与GB/T 12963-2009相比,主要有如下变动:——增加引用下列国家标准:GB/T 1551

改良西门子法制备多晶硅中的能耗和环境保护问题

- 一、序二、多晶硅制备的特点三、建设多晶硅项目要注意的几个问题 1、工艺选择和产品方案 2、建设周期和投资估算 3、综合利用和环境保护 4、热平衡和料平衡 5

我国电子级多晶硅发展情况分析

I NDUSTRY产业我国电子级多晶硅发展情况分析■文 / 江华(赛迪智库集成电路研究所)电子级多晶硅是制造半导体 单晶硅中氧、碳含量低,载流子硅片最基础和最主要的原材料之 浓度低,电阻率高,主要应用