磁控溅射镀膜工艺介绍

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磁控溅射镀膜的简介及其实际操作

磁控溅射镀膜的简介及其实际操作作者：徐超群作者单位：乐山师范学院物理与电子工程系【摘要】溅射技术的最新成就之一是磁控溅射。对于二级溅射、偏压溅射、三级或四级溅射和射频溅射而        言。它们的缺

磁控溅射法制备si基TiN薄膜及其性能表征

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磁控溅射法制备Cu膜

苏州科技学院本科生毕业论文 磁控溅射法制备Cu膜 摘要 沉积速率高、基材温升低的磁控溅射工艺,已经成为半导体集成电路金属化工艺的主流。本文重点对在硅晶圆上溅射金属铜薄膜的实际镀膜过程中的淀积速率进行了

磁控溅射技术和透明导电薄膜

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磁控溅射(2讲义仪器)

【附录】DHRM-3射频磁控溅射镀膜装置介绍DHRM-3射频磁控溅射镀膜装置是高真空磁控溅射镀膜设备。它可用于在高真空背景下，充入高纯氩气，采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜，而且又可以

磁约束磁控溅射装置的磁场分析

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磁控溅射操作过程

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射频磁控溅射中离子输运的计算机模拟

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影响磁控溅射均匀性的因素

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磁控溅射镀膜机技术规格

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磁控溅射(2讲义仪器)

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